Все расценки нормы: Ц32-1-21 Оборудование для эпитаксии
# Обоснование Ед.изм Наименование
1 Ц32-1-21-1 КОМПЛ УСТАНОВКА ВЫРАЩИВАНИЯ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СТРУКТУР ГИДРИДНЫМ МЕТОДОМ ПРИ ПОНИЖЕННОМ ДАВЛЕНИИ, СВЧ ОБОГРЕВОМ#(ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ЭПИТАКСИИ)
2 Ц32-1-21-2 КОМПЛ УСТАНОВКА ЭПИТАКСИАЛЬНОГО НАРАЩИВАНИЯ ПЛЕНОК МОНОКРИСТАЛЛОВ#(ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ЭПИТАКСИИ)
3 Ц32-1-21-3 КОМПЛ УСТАНОВКА НАРАЩИВАНИЯ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ#(ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ЭПИТАКСИИ)
4 Ц32-1-21-4 КОМПЛ УСТАНОВКА ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ ГЕТЕРОЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СТРУКТУР#(ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ЭПИТАКСИИ)